[백세경제=김인하 기자] SK하이닉스가 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시했다. SK하이닉스는 지난 7일 ‘제5회 혁신특허포상 시상식’을 진행했다고 8일 밝혔다.

SK하이닉스는 지난 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 실시해 회사의 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정, 이를 발명한 구성원을 포상하고 있다.

이번 시상식의 최고상(금상)은 총 2건이다. 수상에는 DRAM 내부의 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 DRAM개발 신범주 TL과 DRAM 내부의 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 미래기술연구원 황선환 TL, 장세억 SKHU(SK Hynix University, 사내대학) 교수가 수상했다.

SK하이닉스는 이외에도 NAND, Solution, Package 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건(금상 2건, 은상 3건, 동상 5건)의 혁신특허를 선정하고, 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총 상금 2억 1,500만원을 수여했다.

SK하이닉스 관계자는 “제도를 기반으로 구성원의 연구 의욕을 고취하고, 회사의 이익과 기술력이 증대되는 선순환 구조를 형성해 글로벌 기술기업으로 나아가기 위한 특허를 지속적으로 발굴해 나갈 계획”이라고 밝혔다.

김인하 기자 다른기사 보기